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供求商机详细资料 发布时间:2008-4-12 9:19:46  清洗制绒设备 清洗制绒设备 设备简介：型号：CGB-XXXX—XX系列，品牌：华林嘉业—CGB 1）主要用于单、多晶硅太阳能电池片生产,扩散前的绒面腐蚀和清洗。 2）工艺流程： 上料→HF+HNO3腐蚀→QDR+氮气鼓泡+喷淋→KOH腐蚀→QDR+氮气鼓泡+喷淋→HCl腐蚀→QDR+氮气鼓泡+喷淋→下料→离心机甩干(离线) 3）设备采用龙门式机械手方式移动，其工艺时间可以自行调节，酸碱槽具有自动补液装置，可实现无间断生产。能显示温度曲线、浓度变化曲线，及各个工位的工作状态。具有设备报警说明，报警历史查询功能。对清洗用纯水有电阻率监测装置，能存储10个以上工艺方案； 4）标准工艺下产量：125mm×125mm、156mm×156mm、 210mm×210mm的硅片，适用于投产厚度为160±30  相关供求信息 [04-12] 手动硅料腐蚀台 [04-12] 手动硅料腐蚀机 [04-12] 太阳能电池硅片清洗机 [04-12] 太阳能电池单晶多晶硅片扩散前/后清洗设备 [04-12] 太阳能电池片制绒酸洗设备 [04-12] LED行业晶片清洗腐蚀机 [04-12] 微电子实验室化学湿台腐蚀台 [04-12] 半导体硅晶圆显影定影机 [04-12] 半导体单晶圆片蒸发清洗线 [04-12] 微电子实验室用净化存储通风橱 [04-12] 半导体硅晶圆片边缘腐蚀机 [04-12] 立式半导体外延石英炉管钟罩清洗机 [04-12] 半导体分立器件RCA硅晶圆片湿法刻蚀清洗机 [04-12] 砷化镓腐蚀机 [04-12] 全自动硅片腐蚀机 [04-12] 全自动硅料清洗机 [04-12] 前处理腐蚀清洗机 [04-12] 背面轻刻腐蚀清洗台 [04-12] 手动背面去胶机 [04-12] 金属腐蚀台 [04-12] 衬底清洗机 [04-12] 半导体溅射膜片清洗设备: [04-12] 光刻腐蚀清洗机 [04-12] 硼扩散清洗台 [04-12] 磨片清洗台 [04-12] 液晶腐蚀减薄设备

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