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供求商机详细资料 发布时间:2008-4-12 9:15:19  半导体分立器件RCA硅晶圆片湿法刻蚀清洗机 半导体分立器件RCA硅晶圆片湿法刻蚀清洗机 本设备型号：CGB-XXXX—XX系列，品牌：华林嘉业—CGB适用于去除硅晶圆片工件表面的油污及其他有机物、除胶、去金属离子等。设备由清洗槽部分、伺服系统及机械臂部分、层流净化系统、电气控制系统、机架及整机部分组成。清洗槽部分由有机溶剂槽、去离子水槽、酸槽或碱槽等组成。关键件均采用进口原件，包括气动阀，PFA管道，全氟循环系统等，保证工作介质（酸、碱）的洁净度，避免杂质析出。 整体采用德国进口工程塑料焊接组合加工而成，结构合理，外型美观。工艺过程全自动，机械手在槽间的转换由两套伺服系统控制，可存储多条工艺时序，方便使用。 人机界面为触摸屏，方便直观，操作简便。.除装片和取片需人工外，其余工艺动作均可自动完成。设备适用于微电子半导体行业，也适合于高校化学实验室作实验湿台、腐蚀台。非标规格  相关供求信息 [04-12] 砷化镓腐蚀机 [04-12] 全自动硅片腐蚀机 [04-12] 全自动硅料清洗机 [04-12] 前处理腐蚀清洗机 [04-12] 背面轻刻腐蚀清洗台 [04-12] 手动背面去胶机 [04-12] 金属腐蚀台 [04-12] 衬底清洗机 [04-12] 半导体溅射膜片清洗设备: [04-12] 光刻腐蚀清洗机 [04-12] 硼扩散清洗台 [04-12] 磨片清洗台 [04-12] 液晶腐蚀减薄设备 [04-12] 电子器件清洗设备 [04-12] 液晶玻璃清洗设备 [04-12] 半导体分立器件清洗设备-外延钟罩清洗机 [04-12] 半导体清洗设备-砷化镓清洗设备 [04-12] 清洗硅片时的倒片机 [04-12] 半导体器件设备-硅片清洗甩干机 [04-12] 晶片清洗机 [04-12] 微电子与半导体工艺--LED晶片清洗设备 [04-12] 半导体器件设备-单晶腐蚀通风柜 [04-12] IMP设备部件清洗柜 [04-12] 可供各种半导体分立器件清洗设备 [04-12] LCD清洗腐蚀设备 [04-12] 超声波硅片腐蚀机

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